ホーム
FEOL(Front End of Line : 基板工序、半导体晶元制造工序的前半部分)
1. 元件隔离
晶体管是在硅晶片的表面附近形成晶。
为保证每个晶体管的独立运行,需要阻止与之相邻的晶体管的干扰。因此,晶体管的形成区域是相互隔离的。实现这样的元件隔离的方法有好几种。
在这里我们介绍的是一种叫做STI(Shallow Trench Isolation)的技术。
晶体管是在硅晶片的表面附近形成晶。
为保证每个晶体管的独立运行,需要阻止与之相邻的晶体管的干扰。因此,晶体管的形成区域是相互隔离的。实现这样的元件隔离的方法有好几种。
在这里我们介绍的是一种叫做STI(Shallow Trench Isolation)的技术。